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会社概要

楽しい企業文化がメンバーの勤労意欲を高めるし、
メンバーの肯定的なエネルギーは顧客サービスの向上に繋がる好循環を目指します。

政府機関	開発課題の内容	実行期間
	次世代生産用シリコンインゴット鋳造炉の開発	2010. 07 ~ 2012. 04
	20bar ガス加圧焼入れ用多室形真空熱処理炉の開発	2014. 06 ~ 2017. 05
	水平フロー・垂直フロー兼用のSiC CVD装置の開発	2011. 05 ~ 2013. 04
	抵抗加熱方式に基づいSiC単結晶成長装置の開発	2014. 07 ~2016. 06
	高純度グラファイト製造用真空純化炉の開発	2018. 05 ~ 2020. 04
	統合最適設計を利用した高効率超高温真空炉設計技術の開発	2002. 07 ~ 2004. 06
	ヒーターコネクターの構造健全性の評価	2004. 06 ~ 2004. 11

特許名称	登録番号
太陽電池用シリコンの製造のためのキャスト装置	第 10-0902859号
熱流動均一化と冷却加速モジュール付きの高品位焼結炉	第 10-1095587号
高分子電解質燃料電池用炭素分離板の製造方法	第 10-1131726号
生産能力可変型太陽電池用多結晶シリコンインゴット製造装置	第 10-1159796号
ガス反応装置[水平フローのSiC CVD リアクター]	第 10-1238375号
太陽電池用シリコンインゴット製造装置及び製造方法	第 10-1469107号
抵抗加熱方式を用いた単結晶昇華装置及び方法	第 10-1524811号
化合物半導体バルク単結晶製造装置	第 10-1627503号
高温真空熱処理炉の移送装置	第 10-1634673号
LED製造用部品から窒化ガリウム層を削除する方法	特許-2018-0009065号