진공치환을 기반으로
다양한 분위기 가스의
공정요구에 대응
1500도 ~ 2500도의
세라믹, 카본 등 고온소성
영역에 특화
분위기 가스와 분말의
접촉을 균일하게 담보하는
구조 제안
공정 특성에 따라
Batch 식 또는
Pulse 연속식 대응
도가니 사용배제에 의한
생산 효율성 극대화
| 구분 | 사양 | 구분 | 사양 |
|---|---|---|---|
| 장비 형식 | 가스 가압형 수평식 Vacuum Rotary Retort Furnace | 공정 분위기 | 진공, Argon, N2 |
| 장비 용도 | 비산화물 세라믹스 분말의 고온 소성 | 공정 압력 | 5*10(-3) Pa ~ 2 Bar |
| 사용 온도 | 1,500 ~ 2,200℃ [Max. 2300℃] | 가열실 재료 | Graphite |
| 가열실 규격 | 420W ⅹ 420H ⅹ 600D mm | 온도 제어 및 측정 | C type T/C & Pyrometer |
| Retort 규격 | Φ230ⅹ520D mm | 진공 배기 | Diffusion Pump + MBP + Oil Rotary Pump |
| Muffle Crucible 규격 | Φ200 ⅹ 500D mm | 장입 방식 | Retort 내에 Graphite Muffle 분말 도가니 장입 |
| 온도 균일도 | ±5℃ | 시스템 제어 | PLC Control, Touch Panel Interface |
| 승온 속도 | 5 ~ 10℃/분 | 선택사양 | 대기 분위기용 Alumina Retort |
| 구분 | 사양 | 구분 | 사양 |
|---|---|---|---|
| 장비 형식 | 자동 Pulse 이송식 Multi Chamber Furnace | 공정 압력 | 상압 |
| 장비 용도 | 카본 분말의 흑연화 또는 고순화 처리 | 가열실 재료 | Graphite |
| 챔버 구성 | 고온 가열실 → 1차 냉각실 → 2차 냉각실 | 온도 제어 및 측정 | C type T/C & Pyrometer |
| 처리 용량 | 10L ~ 200L/hr | 진공 배기 | MBP + Oil Rotary Pump |
| 사용 온도 | 1500 ~ 2400℃ [Max. 2500℃] | 냉각 방식 | 질소 가스 강제냉각 |
| Retort 규격 | 25L ~ 500L | 원료 장입 | Feeder에 의한 자동 정량 투입 |
| 표준 열처리 시간 | 50분 | 시스템 제어 | PLC Control, Touch Panel Interface |
| 공정 분위기 | 진공 치환 후 Argon, N2, Cl2(HCl) | 선택사양 | 기체이송 냉각장치 |