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제품소개

분말소성로

분말소성로 특장점

  • 진공치환을 기반으로
    다양한 분위기 가스의
    공정요구에 대응

  • 1500도 ~ 2500도의
    세라믹, 카본 등 고온소성
    영역에 특화

  • 분위기 가스와 분말의
    접촉을 균일하게 담보하는
    구조 제안

  • 공정 특성에 따라
    Batch 식 또는
    Pulse 연속식 대응

  • 도가니 사용배제에 의한
    생산 효율성 극대화

Vacuum Rotary Retort Fce 표준사양

구분 사양 구분 사양
장비 형식 가스 가압형 수평식 Vacuum Rotary Retort Furnace 공정 분위기 진공, Argon, N2
장비 용도 비산화물 세라믹스 분말의 고온 소성 공정 압력 5*10(-3) Pa ~ 2 Bar
사용 온도 1,500 ~ 2,200℃ [Max. 2300℃] 가열실 재료 Graphite
가열실 규격 420W ⅹ 420H ⅹ 600D mm 온도 제어 및 측정 C type T/C & Pyrometer
Retort 규격 Φ230ⅹ520D mm 진공 배기 Diffusion Pump + MBP + Oil Rotary Pump
Muffle Crucible 규격 Φ200 ⅹ 500D mm 장입 방식 Retort 내에 Graphite Muffle 분말 도가니 장입
온도 균일도 ±5℃ 시스템 제어 PLC Control, Touch Panel Interface
승온 속도 5 ~ 10℃/분 선택사양 대기 분위기용 Alumina Retort

Pulse 연속 분말소성로 표준사양

구분 사양 구분 사양
장비 형식 자동 Pulse 이송식 Multi Chamber Furnace 공정 압력 상압
장비 용도 카본 분말의 흑연화 또는 고순화 처리 가열실 재료 Graphite
챔버 구성 고온 가열실 → 1차 냉각실 → 2차 냉각실 온도 제어 및 측정 C type T/C & Pyrometer
처리 용량 10L ~ 200L/hr 진공 배기 MBP + Oil Rotary Pump
사용 온도 1500 ~ 2400℃ [Max. 2500℃] 냉각 방식 질소 가스 강제냉각
Retort 규격 25L ~ 500L 원료 장입 Feeder에 의한 자동 정량 투입
표준 열처리 시간 50분 시스템 제어 PLC Control, Touch Panel Interface
공정 분위기 진공 치환 후 Argon, N2, Cl2(HCl) 선택사양 기체이송 냉각장치