ThermVac

제품소개

고온 CVD로

세라믹 CVD 반응로

수직 원통형의 Graphite 가열실 내부에 반응실 Muffle을 안착한 형태의 고온 진공로 장비로서, 기판 또는 섬유상 등의 카본계 모재를 Muffle 머플 하단의 턴테이블 위에 적재하고 진공 배기한 다음 머플을 1000 ~ 2400℃ 범위로 가열한 상태에서 원료가스(Precursor)를 머플 내부에 도입하여 압력을 분압으로 조절함으로써 원료가스의 열분해 및 반응을 통해 발생하는 PyC, SiC, B4C, TaC 등의 증기를 모재 표면 또는 내부에 박막으로 증착합니다.

CVD 장비 특장점

  • 2400℃ 초고온까지의
    CVD 요구에 대응하는
    Hot Zone

  • 제품 적재조건에 따라
    수평, 수직 Gas Flow
    모두 가능

  • 유지보수가 용이한
    Muffle, Nozzle 및
    배관 구조

  • 가스공급 ~ 배기처리
    Scrubber 전라인
    Turn Key 공급

  • 각부 수명/유지보수주기
    연장을 위한 각종 고안

세라믹 CVD 표준공통사양

구분 사양 구분 사양
장비 형식 수평 또는 수직형 초고온 가스반응 진공로 Retort Muffle 형식 다각조립형 Graphite 원통
장비 용도 세라믹 막 증착(CVD) 또는 치밀화 함침(CVI) 공정 가스 [MTS, CH4, TaCl4, HfCl4, BCl3-NH3], H2, N2, Ar
합성 재료 SiC, TaC, HfC, BN, (Pyrolitic) Carbon 공정 압력 5KPa ~ 50KPa
적재 공간 254L ~ 3532L 진공배기 Mechanical Booster Pump + Dry Pump
사용 온도 고온형[Max. 1600℃], 초고온형[Max. 2400℃] 제품 장입 승강식 하부도어 장입, 턴테이블 회전
온도 분포도 ± 6~12℃ [1000℃, No Load, Vacuum] 도어 잠금 방식 유압 클램프 잠금 방식
승온 속도 2~10℃/min 배기 처리 응축 Trap, 분진 Filter, Scrubber
온도 제어 열전대와 SCR에 의한 Multi Zone PID 제어 시스템 제어 PLC Control, PC or Touch Panel Operation
가열실 재료 Graphite Electric Power AC 3Φ 또는 DC

세라믹 CVD 표준제작규격

제품소개 다운로드

- 고온형(HT)_Max. 1,600℃

모델명 TVCVD-
HT0609
TVCVD-
HT1015
TVCVD-
HT1218
TVCVD-
HT1520
장입규격 (mm) Φ600 * 900H Φ1000 * 1500H Φ1200 * 1800H Φ1500 * 2000H
장입중량 (Kg) 200 ~ 300 Kg 550 ~ 700 Kg 750 ~ 1,000 Kg 1,000 ~ 1,300 Kg
온도 분포도 ±6℃ ±8℃ ±10℃ ±12℃
가열전력 (KVA) 360 KVA 600 KVA 750 KVA 1,000 KVA

- 초고온형(UT)_Max. 2,400℃

모델명 TVCVD-
UT0609
TVCVD-
UT1015
TVCVD-
UT1218
TVCVD-
UT1520
장입규격 (mm) Φ600 * 900H Φ1000 * 1500H Φ1200 * 1800H Φ1500 * 2000H
장입중량 (Kg) 200 ~ 300 Kg 550 ~ 700 Kg 750 ~ 1,000 Kg 1,000 ~ 1,300 Kg
온도 분포도 ±6℃ ±8℃ ±10℃ ±12℃
가열전력 (KVA) 540 KVA 940 KVA 1,140 KVA 1,440 KVA