陶瓷CVD沉积设备
这是一种高温真空炉，反应马弗罐置于立式石墨加热室内。 将碳基材料的基材或纤维放置在马弗罐底部的转盘上，抽真空，然后加热至1000℃~2400℃，同时在分压下将前体气体引入马弗罐中。 这使得前体气体的热分解和反应产生的PyC、SiC、B4C、TaC等蒸气能够以薄膜形式沉积在基底上或纤维内部。
产品介绍
CVD
CVD 设备 特点
-
对应2400℃
超高温CVD要求热场 -
根据物品摆放方
式设计水平与垂直
供气喷嘴 -
便于维护的反应室及
喷嘴和管道构造 -
提供供气系统到尾
气处理全套系统 -
购成品寿命或者
延长维护周期的各
种核心技术
陶瓷 CVD 标准式样
| 划分 | 式样 | 划分 | 式样 |
|---|---|---|---|
| 设备形式 | 垂直型高温化学气相沉积系统 | 反应室形式 | 多角拼接型石墨圆筒 |
| 设备用途 | 陶瓷薄膜沉积或者致密化含侵(CVI) | 工艺气体 | [MTS, CH4, TaCl4, HfCl4, BCl3-NH3], H2, N2, Ar |
| 合成材料 | SiC, TaC, HfC, BN, (Pyrolitic) Carbon | 工艺压力范围 | 5KPa ~ 50KPa |
| 装料空间 | 254L ~ 3532L | 真空排气 | 罗茨泵 + 螺杆泵 |
| 使用温度 | 高温型[Max. 1600℃], 超高温型[Max. 2400℃] | 装料方式 | 升降式底部装料, 装料台旋转 |
| 温度均匀度 | ± 6~12℃ [1000℃, No Load, Vacuum] | 炉门关闭方式 | 液压锁紧方式 |
| 升温速度 | 2~10℃/min | 排气处理 | 冷凝器, 粉尘捕捉装置, 喷淋塔 |
| 温度控制 | 热电偶和可控硅多区比例控制 | 系统控制 | PLC 控制, 电脑或者触摸屏操作 |
| 加热室材料 | Graphite | 加热器电压 | AC 3Φ 或者 DC |
陶瓷 CVD 标准制作规格
- 高温型(HT)_Max. 1,600℃
| 型号 | TVCVD- HT0609 |
TVCVD- HT1015 |
TVCVD- HT1218 |
TVCVD- HT1520 |
|---|---|---|---|---|
| 装料规格 (mm) | Φ600 * 900H | Φ1000 * 1500H | Φ1200 * 1800H | Φ1500 * 2000H |
| 装料重量 (Kg) | 200 ~ 300 Kg | 550 ~ 700 Kg | 750 ~ 1,000 Kg | 1,000 ~ 1,300 Kg |
| 温度均匀度 | ±6℃ | ±8℃ | ±10℃ | ±12℃ |
| 加热电力 (KVA) | 360 KVA | 600 KVA | 750 KVA | 1,000 KVA |
- 超高温(UT)_Max. 2,400℃
| 型号 | TVCVD- UT0609 |
TVCVD- UT1015 |
TVCVD- UT1218 |
TVCVD- UT1520 |
|---|---|---|---|---|
| 装料规格 (mm) | Φ600 * 900H | Φ1000 * 1500H | Φ1200 * 1800H | Φ1500 * 2000H |
| 装料重量 (Kg) | 200 ~ 300 Kg | 550 ~ 700 Kg | 750 ~ 1,000 Kg | 1,000 ~ 1,300 Kg |
| 温度均匀度 | ±6℃ | ±8℃ | ±10℃ | ±12℃ |
| 加热电力 (KVA) | 540 KVA | 940 KVA | 1,140 KVA | 1,440 KVA |